半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。
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浅谈硅片工艺面临的挑战
切割线直径。更细的切割线意味着更低的截口损失，也就是说同一个硅块可以生产更多的硅片。然而，回收多晶硅料价格对比，切割线更细更容易断裂。
荷载。每次切割的总面积，邢台回收多晶硅料价格，等于硅片面积X每次切割的硅块数量X每个硅块所切割成的硅片数量 。
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按单晶生长方法划分：直拉法制各的单晶硅，称为CZ硅(片);磁控直拉法制各的单晶硅，称为MCZ硅(片);悬浮区熔法制各的单晶硅，称为FZ硅(片);用外延法在单晶硅或其他单晶衬底上生长硅外延层，称为外延(硅片)。
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